型号/规格

SU8010

购置时间

2015.04

简介

场发射扫描电镜可用于材料分析和研究，特别是材料断口分析、微区成分分析、各种镀膜表面形貌分析、层厚测量和显微组织形貌及纳米材料分析等。

指标参数

（1）二次电子分辨率：1.0nm(15kV)，1.6nm(1kV) ；

（2）加速电压：≥0.1 ~ 30kV 

（3）电子束流：100nA，200nA 或20nA

（4）放大倍数：优于×30～×200000

（5）物镜光阑：可调，加热自清洁装置

（6）样品台：三轴；倾斜：≥-3~70⁰ ；旋转：360⁰连续

（7）真空系统：真空度：电子枪室高真空：10^-7Pa,；提供离子泵用专用UPS；样品室真空：10^-4Pa。

（8）聚光镜：电磁透镜会聚系统，束流强度可连续可调。

（9）电子光学系统

9.1电子枪：场发射电子枪

9.2电子枪和轴：自动

9.3工作距离：≥1.5mm~30mm

9.4聚焦：自动聚焦或手动聚焦。

9.5减速模式

9.6自动功能：自动聚焦、曝光、消像散

9.7能量过滤器。

（10）探测器及成像系统

高位二次电子探头和低位二次电子探头、背散射电子探头。

（11）全自动离子溅射仪

溅射电流：0~40mA；靶铂(Pt)或黄金靶

（12）能谱仪

分辨率127eV；探测器探头 SDD；探头有效面积：≥60平方毫米；探测元素 Be4--U92；提供全套分析软件。

主要应用

场发射扫描电镜可用于材料分析和研究，特别是材料断口分析、微区成分分析、各种镀膜表面形貌分析、层厚测量和显微组织形貌及纳米材料分析等。

样品要求

样品类型：无磁性、无挥发性材料

放置地点

崂山校区明德楼1号门旁

负责人及联系方式

徐瑾 18661453228